据英国金融时报报导，担任监督新式光刻机开发的佳能高管武石洋明近来承受媒体采访称，选用纳米压印技能的佳能光刻设备 FPA-1200NZ2C 将会在本年或下一年正式上市出售。
御手洗富士夫表明，这款新式光刻设备将为小型半导体制作商出产先进芯片拓荒一条新的途径。这项技能被称为纳米压印光刻（NIL），是指将带有半导体电路图画的掩模压印在晶圆上，在一个印记之后，就能构成杂乱的2D或许3D电路图画。因而只需一向改善掩模技能，还能够出产出2nm等级的芯片。
佳能与日本印刷归纳企业大日本印刷株式会社（Dai Nippon Printing Co.）以及存储芯片制作商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）协作研讨纳米压印技能已有近十年的时刻。与经过反射光作业的极紫外光刻技能不同，佳能研讨的纳米压印技能是将电路图画直接印在晶圆上，然后制作出据称几许形状与最先进节点适当的芯片。
这种新设备有望让芯片制作商下降对芯片代工厂的依靠，一起也让台积电和三星电子等芯片代工厂更有或许批量出产芯片。据悉，这种机器所需功率只要 EUV 同种类型的产品的十分之一。
别的，《金融时报》还征引御手洗富士夫的话说：“NIL 产品的价格比 ASML 的 EUV 光刻机‘少一位数’”。这表明，佳能研制的新式光刻设备在价格上具有竞争力。
纳米压印技能，从字面的意思分析。纳米代表了这个技能加工的标准是（纳米：Nanometer，符号:nm，即为毫微米，是长度的衡量单位。1纳米=10的负9次方米。）。压印则是代表了这个技能的完成办法，按压、图印。最为直观的了解这个技能的简略类比办法便是我国的四大发明之一——印刷术。印刷术经过制作印刷模具、拓片、墨水等完成文字的复刻和图形的搬运，经过多年的演化有了凸版印刷、平版印刷、凹版印刷、孔板印刷以及软板印刷等不同方式。陈旧的印刷术的技巧和思想经过千百年的改变依然对今世社会发生着重要的影响，古人的思想经过前史的载体表现在了现代科技傍边。纳米压印将印刷术在现代电子信息技能方向的运用表现得酣畅淋漓。
纳米压印，英文名称：Nano-imprint Lithography,简称NIL.1995年,由华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授初次提出这个概念,便解开了纳米压印制作技能讨论研讨序章。结合现代微电子工艺和资料技能，克服了光学曝光中因为衍射现象引起得分辨率极限等问题，显现了超高封边了、高产量、低成本等合适工业化出产得共同长处。
纳米压印的根本指导思想是经过搬运介质将掩模具上的图形搬运到基板上，搬运介质多运用聚合物薄膜（如 PMMA、PDMS等）。其工艺最重要的包括图形仿制和图形搬运两大过程，流程由对准施压、压印（图形仿制）、脱模、去除剩余层、图形搬运（刻蚀或许淀积金属薄膜、溶脱）。因为纳米压印技能选用的是1:1份额的掩模具进行图形搬运，无需考虑分辨率受限的问题，现在使用纳米压印技能制备出的微结构特征线nm。
