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凸版印刷方案2021年量产半导体5nm光掩模板

  CINNO Research工业资讯,凸版印刷方案在2021年量产用于半导体方向,5纳米(最顶级的蚀刻线米的十亿分之一)的光掩膜板(Photo Mask),以应对新一代移动通讯标准(5G)、无人驾驶方向的高机能半导体的需求。 此外,凸版印刷还争夺在2023年量产3纳米光掩膜板。

  关于半导体,线路的线宽越细,功能越好,现在,台积电(TSMC)、韩国三星电子都在致力于5纳米半导体的量产,两家公司都在内制光掩膜板的出产。要出产5纳米半导体,需求具有EUV的超高端技能。

  凸版印刷方案5纳米出产遍及到继三星等之后的“第二队伍”厂家时 ,开端接光掩膜板的订单。 因为5G、无人驾驶等商场的扩展,需求处理很多数据的半导体的需求提高,因而大规模集成线路(LSI)、用于智能手机等的DRAM的纤细化在不断发展。

  光掩膜板是量产顶级半导体不可或缺的资料,在硅晶圆上刻制线路时运用,发挥着好像相片底片的效果。


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